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Selective Coating
Wafer Level Patternable


Litho-Black (미세가공대응 차광막)TM - Optical Coating



Litho-BlackTM은、Photolithography기술、etching기술과 같은 미세가공기술에 적합한 광흡수막, 광차광막입니다.
막 두께2um정도로, 자외, 가시, 적외광 영역에서 97%이상의 흡수특성을 지니고, Photolithography, etching처리의 높은 호환성을 겸비하고 있습니다.
Litho-BlackTM은 비철금속, 비철금속 탄화물로 구성되어 있어, 성막과정에서 유기물질, 화학약품은 사용되지 않고 있습니다. 무기질물질로 인한 성막이기에, 아웃가스 발생도 없습니다. Litho-BlackTM은 폐사광흡수막과 차광막 시리즈로 최신 타입입니다.
독자적인 진공증착기술을 사용하여 성막된 광흡수막,차광막은, 진공, 극저온환경에도 뛰어난 적응성을 지니고 있어, 우주에서 사용을 포함한 광범위한 어플리케이션 적용이 가능합니다.





Litho-BlackTM 특징

  • 저반사율
  • 도전성제어(일정 범위에서)
  • Photolithography기술과의 호환성
  • etching기술과의 호환성
  • 3um스케일
  • 모든 기판에 성막이 가능(실리콘、유리등)
  • 저 아웃가스
  • 비립자화
  • 180℃이하의 저온처리가 가능






  • Litho-BlackTM 어플리케이션

    1.초전형 적외선 센서용 적외광 흡수막
    적외선을 고효율로 흡수하여, 많이 열이 초전부에 전달하므로, 고밀도 적외선감지가 가능。

    2.측정센서용 광차광막
    내후성에 뛰어난 공업용도 광차광막으로, 고밀도 패터닝 레벨과 막두께 공차를 지님。

    3. 1024 Element Uncooled Linear Array Wafer
    Electrically insulating, low reflective coating covering the entire surface; leaving accurately sized windows over the elements.
  • generates uniform element width for uniform element response by covering spare edges.

  • non-sensitive areas covered with low reflectivity coating for stray light suppression.




  • Quick Quote - Parts Coating


    Note: the values are average for above selected wavelength band

    Upload drawing (if available):
    Define Areas to be Coated and or Masked (free from any coating).

    (doc,exl,pdf,txt,png,jpg,jpeg,gif,zip)
    Projected Annual Requirements:
    Notes / Additional Requirements

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